具體如下：

針對上述材料特點和電鏡制樣難點，徠卡顯微系統(tǒng)推出三種加工策略和兩種設(shè)備，以便能盡可能真實地展現(xiàn)出材料表面及體相結(jié)構(gòu)。

對于絕大部分常見樣品，無論是塊材、片材、薄膜、顆?；蛘叻勰?包埋后)，均可使用精研一體機(jī)(徠卡EM TXP)對其進(jìn)行精準(zhǔn)的定點切割、研磨和拋光，接近我們所感興趣的位置(預(yù)留~50 μm)，再使用三離子束切割儀(徠卡EM TIC 3X)進(jìn)行無應(yīng)力切割，直接暴露出目標(biāo)位置?；蛘咭部梢栽跈C(jī)械拋光后，使用徠卡TIC 3X對其進(jìn)行大范圍離子束拋光，去除應(yīng)力損傷層，暴露出干凈平整的樣品表面。

對于塊狀、片狀、甚至薄膜材料，我們可以使用TXP對其進(jìn)行預(yù)加工，得到厚度小于30 μm，直徑為3 mm的圓片，再通過離子減薄儀(徠卡EM RES102)進(jìn)行中央的薄區(qū)加工，用于透射電鏡觀察。

高真空鍍膜能夠幫助我們消除電鏡觀察過程中電荷積聚效應(yīng)，避免電子束對樣品表面的熱損傷，提高對表面細(xì)微結(jié)構(gòu)的分辨能力。同時，一款優(yōu)秀的鍍膜儀能夠更加真實地展現(xiàn)出材料表面的細(xì)微的立體結(jié)構(gòu)。

對于一些活潑材料，其材料本身或者新鮮截面極易于空氣中的水或氧氣反應(yīng)，只是表面形貌和化學(xué)組成改變，甚至可能造成燃燒、爆炸等危害。此時，徠卡推出的真空冷凍傳輸系統(tǒng)能夠有效避免樣品在轉(zhuǎn)移、運(yùn)輸過程中，與環(huán)境氣體(水汽或氧氣)接觸，保護(hù)樣品。同時，該裝置還能夠長時間(>= 80 min)保持低溫(<-180攝氏度)和高真空(5*10-6 ~ 7*10-6 mbar)，為客戶提供充足的時間進(jìn)行樣品轉(zhuǎn)移運(yùn)輸。